本文標(biāo)題："制作的繞射式元件所量測(cè)焦距的方式-光學(xué)常識(shí)"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類: 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
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制作的繞射式元件所量測(cè)焦距的方式-光學(xué)常識(shí)
預(yù)知并了解所設(shè)計(jì)的元件的特性。
對(duì)于使用 BOE 溶液來(lái)蝕刻石英，其目的是要將經(jīng)由活性離子蝕
刻后的灰階微透鏡之石英，使其表面的形狀緩和，若在 BOE 溶液中
浸泡太久會(huì)有側(cè)向蝕刻的情況產(chǎn)生，會(huì)造成元件表面的圖形走樣而
使得元件的特性改變，因此在浸泡 BOE 溶液時(shí)，時(shí)間需要拿捏在幾
秒中就可以達(dá)到讓 3D 元件的表面緩和并不會(huì)破壞元件的圖形，而
影響其繞射效果。
對(duì)于之前制作的繞射式元件所量測(cè)焦距的方式有：杜曼-格林干涉
法和云紋干涉法兩種，對(duì)于長(zhǎng)焦距的灰階微透鏡而言，使用這兩種
的量測(cè)方式誤差范圍大約在 2%左右，但對(duì)短焦距的八階微透鏡而
言，目前只能用云紋干涉法來(lái)量測(cè)，也因元件的尺寸太小造成在元
件尺寸內(nèi)的條紋數(shù)過(guò)少，因此對(duì)焦距的量測(cè)上會(huì)有 40%的大幅度誤
差，其解決的方案是在增加八階微透鏡移動(dòng)的距離時(shí)，使量測(cè)之單
位長(zhǎng)度條紋數(shù)改變量增加，以提高焦距量測(cè)的精確度
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