本文標(biāo)題："電子微探分析儀之原理，實(shí)際上與掃瞄電子顯微鏡完全相同"
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電子探測(cè)光顯微分析(Electron Probe X-ray Micro-Analysis, EPMA)技術(shù)源1984年,為法國(guó) R.Castaing (巴黎大學(xué) A. Guinier 之學(xué)生)首創(chuàng). 最出他將一具穿透式電子顯微鏡裝在一光學(xué)臺(tái)上,利用TEM 之電子束 打擊在試片上而產(chǎn)生X光。X光經(jīng)由一圓弧形單晶分解成X光光譜，被電子束打擊到的區(qū)城，可藉一光儀系統(tǒng)來(lái)觀測(cè)．藉此裝置系統(tǒng)，可將目視的金相分析與顯微化學(xué)分析合在一起。以后，再經(jīng)偵測(cè)技術(shù)及資訊處理的改進(jìn)后，演變成今天的電子微探儀 (electron probe micro-analyzer) 。
電子微探分析儀之原理，實(shí)際上與掃瞄電子顯微鏡完全相同。電子束由一金屬絲加熱產(chǎn)生。經(jīng)由二至三個(gè)磁控聚焦器，焦聚于lOnm至1um直徑之試片上，產(chǎn)生回射及二次電子之二次 放射，同時(shí)也會(huì)產(chǎn)生特性光譜，連續(xù)光譜以及長(zhǎng)波光子之可見(jiàn)光。經(jīng)由不同之偵檢器分別接收不同之放射信號(hào)，藉以分析試片之成分與原子結(jié)構(gòu)。EPMA 除具備SEM 之一切功能外，且可完成顯微定性與定量分析。因此，EPMA 兼具顯微化學(xué)分析及金相顯微鏡之功能。
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